掩膜版切割主要应用行业有LED芯片制造,触摸屏,LCD,消费类电子,半导体,MEMS,照明,等行业,以及科研、航天航空、电子、机械、光学、石油、化工、汽车、工艺品等行业。
掩膜版材料及厚度的选取:
材质的选取方面,我们选用高韧性的SUS304 H不锈钢材料,这样做出来的掩膜版不但精度高,而且表面光滑,产品不易受弯折而变形,经久耐用,同时还能够让掩膜版板与器件保持很紧密的贴合,减少阴影效果。
光刻掩膜版(又称光罩,英文为Mask Reticle),简称掩膜版,是微纳加工技术常用的光刻工艺所使用的图形母版。由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜图形结构,再通过曝光过程将图形信息转移到产品基片上。
待加工的掩膜版由玻璃/石英基片、铬层和光刻胶层构成。其图形结构可通过制版工艺加工获得,常用加工设备为直写式光刻设备,如激光直写光刻机、电子束光刻机等。
掩膜版应用十分广泛,在涉及光刻工艺的领域都需要使用掩膜版,如IC(Integrated Circuit,集成电路)、FPD(Flat Panel Display,平板显示器)、PCB(Printed Circuit Boards,印刷电路板)、MEMS(Micro Electro Mechanical Systems,微机电系统)等。掩膜版尺寸:较大600*600mm
掩膜版加工精度:较小10um
掩膜版材质厚度:较薄加工厚度0.03mm
加工周期:较快12小时出货
特色要求:需要和客服具体沟通
掩膜板材质:不锈钢、钽片、各种薄膜等可按客户要求定制
掩膜版别名:掩膜板、光罩、mask、FMM
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主要经营激光精密切割,激光钻孔,激光焊接,激光刻字,掩膜版,狭缝片,调整垫片,垫圈,间隙片。
单位注册资金未知。
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